Контроллер плазменной резки в основном состоит из следующих компонентов:
Высокочастотный-источник питания: используется для создания высокочастотного-электрического поля;
Согласующая сеть: используется для регулирования распределения-высокочастотного электрического поля внутри плазменной камеры;
Плазменная камера: используется для ионизации молекул газа и генерации плазмы;
Вакуумная система: Обеспечивает уровень вакуума и стабильность плазменной камеры;
Система управления: используется для контроля параметров плазмы и достижения стабильного контроля электрических свойств плазмы.
